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5x10mm2 GaN Epitaxial Wafer Un Dopado Tipo SI

Certificado
CHINA Shanghai GaNova Electronic Information Co., Ltd. Certificações
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5x10mm2 GaN Epitaxial Wafer Un Dopado Tipo SI

5x10mm2 GaN Epitaxial Wafer Un Dopado Tipo SI
5x10mm2 GaN Epitaxial Wafer Un Doped SI Type
5x10mm2 GaN Epitaxial Wafer Un Dopado Tipo SI 5x10mm2 GaN Epitaxial Wafer Un Dopado Tipo SI

Imagem Grande :  5x10mm2 GaN Epitaxial Wafer Un Dopado Tipo SI

Detalhes do produto:
Lugar de origem: Suzhou China
Marca: GaNova
Certificação: UKAS/ISO9001:2015
Número do modelo: JDCD01-001-018
Condições de Pagamento e Envio:
Detalhes da embalagem: Embalagem a vácuo em um ambiente de sala limpa classe 10000, em cassetes de 6 peças ou recipientes d
Tempo de entrega: 3-4 dias da semana
Termos de pagamento: T/T
Habilidade da fonte: 10000pcs/Month

5x10mm2 GaN Epitaxial Wafer Un Dopado Tipo SI

descrição
Nome do produto: GaN Single Crystal Substrate autônomo Espessura: 350 ±25µm
TTV: ≤ 10µm Curva: - ≤ 10µm da CURVA do ≤ de 10µm
Densidade de deslocação: Do ⁵ 1 x 10 ao ² do cm⁻ de 3 x 10 ⁶ Densidade macro do defeito: ² 0cm⁻
Destacar:

GaN Epitaxial Wafer SI Tipo

,

5x10.5mm2 gan epi wafer

,

5x10.5mm2 GaN Epitaxial Wafer

5*10mm2Substrato monocristal de GaN independente (20-21)/(20-2-1) Tipo SI não dopado

5*10mm2Face SP (20-21)/(20-2-1) Substrato monocristal GaN não dopado do tipo SI independente Resistividade > 106Wafer de dispositivos de RF de Ω·cm

 


Visão geral

Nitreto de Gálio é uma tecnologia de semicondutor usada para aplicações de semicondutores de alta potência e alta frequência.Nitreto de Gálio exibe várias características que o tornam melhor do que GaAs e Silício para vários componentes de alta potência.Essas características incluem uma tensão de ruptura mais alta e melhor resistividade elétrica.

 

 

(20-21)/(20-2-1) face Free-standeung GaN Substrates
Item

GaN-FS-SP-US

GaN-FS-SP-NS

GaN-FS-SP-SI-S

 

 

 

 

 

 

 

5x10mm2 GaN Epitaxial Wafer Un Dopado Tipo SI 0

 

Observações:

Um ângulo de arco circular (R < 2 mm) é usado para distinguir a superfície frontal e posterior.

Dimensões 5 x 10 mm2
Grossura 350 ±25 µm
Orientação

(20-21)/(20-2- 1) plano fora do ângulo em direção ao eixo A 0 ±0,5°

(20-21)/(20-2- 1) plano fora do ângulo em direção ao eixo C - 1 ±0,2°

Tipo de Condução tipo N tipo N Semi-isolante
Resistividade (300K) < 0,1 Ω·cm < 0,05 Ω·cm > 106Ω·cm
TTV ≤ 10 µm
ARCO - 10 µm ≤ ARCO ≤ 10 µm
Rugosidade da Superfície Frontal

< 0,2 nm (polido);

ou < 0,3 nm (polido e tratamento de superfície para epitaxia)

Rugosidade da Superfície Traseira

0,5 ~1,5 μm

opção: 1~3 nm (solo fino);< 0,2 nm (polido)

Densidade de Deslocamento De 1 x 105para 3 x 106cm-2
Densidade de Defeito Macro 0 cm-2
Área Útil > 90% (exclusão de borda)
Pacote Embalado em um ambiente de sala limpa classe 100, em contêiner de 6 PCS, sob uma atmosfera de nitrogênio

 

Apêndice: O diagrama do ângulo de corte incorreto

5x10mm2 GaN Epitaxial Wafer Un Dopado Tipo SI 1

 

Se δ1= 0 ±0,5°, então (20-21)/(20-2- 1) plano fora do ângulo em direção ao eixo A é 0 ±0,5°.

Se δ2= - 1 ±0,2°, então (20-21)/(20-2- 1) plano fora do ângulo em direção ao eixo C é - 1 ±0,2°.

 

Sobre nós

Nós nos especializamos no processamento de uma variedade de materiais em wafers, substratos e peças personalizadas de vidro óptico. Componentes amplamente utilizados em eletrônica, óptica, optoeletrônica e muitos outros campos.Também trabalhamos em estreita colaboração com muitas universidades nacionais e estrangeiras, instituições de pesquisa e empresas, fornecendo produtos e serviços personalizados para seus projetos de P&D.É nossa visão manter um bom relacionamento de cooperação com todos os nossos clientes por nossa boa reputação.

 

 

Perguntas frequentes

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Sim, podemos oferecer a amostra gratuitamente, mas não pagamos o custo do frete.
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Pagamento <=5000USD, 100% adiantado.
Pagadores >=5000USD, 80% T/T adiantado, saldo antes do envio.

Contacto
Shanghai GaNova Electronic Information Co., Ltd.

Pessoa de Contato: Xiwen Bai (Ciel)

Telefone: +8613372109561

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