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GaN Monocristal Nitreto de Gálio Wafer Tipo SI

Certificado
CHINA Shanghai GaNova Electronic Information Co., Ltd. Certificações
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GaN Monocristal Nitreto de Gálio Wafer Tipo SI

GaN Monocristal Nitreto de Gálio Wafer Tipo SI
GaN Monocristal Nitreto de Gálio Wafer Tipo SI

Imagem Grande :  GaN Monocristal Nitreto de Gálio Wafer Tipo SI

Detalhes do produto:
Lugar de origem: Suzhou China
Marca: GaNova
Certificação: UKAS/ISO9001:2015
Número do modelo: JDCD01-001-018
Condições de Pagamento e Envio:
Detalhes da embalagem: Embalagem a vácuo em um ambiente de sala limpa classe 10000, em cassetes de 6 peças ou recipientes d
Tempo de entrega: 3-4 dias da semana
Termos de pagamento: T/T
Habilidade da fonte: 10000pcs/Month

GaN Monocristal Nitreto de Gálio Wafer Tipo SI

descrição
Dimensões: ² de 5 x de 10mm Nome do produto: GaN Substrates autônomo
Espessura: 350 ±25µm TTV: ≤ 10µm
Densidade de deslocação: Do ⁵ 1 x 10 ao ² do cm⁻ de 3 x 10 ⁶ Densidade macro do defeito: ² 0cm⁻
Destacar:

Wafer de nitreto de gálio GaN

,

substrato semicondutor gan

,

wafer de nitreto de gálio tipo SI

5*10,5 mm2Face SP (20-21)/(20-2-1) Substrato monocristal GaN não dopado do tipo SI independente Resistividade > 106Wafer de dispositivos de RF de Ω·cm

 


Visão geral

O substrato de nitreto de gálio (GaN) é um substrato de cristal único de alta qualidade.É feito com o método HVPE original e tecnologia de processamento de wafer, que foi originalmente desenvolvido por muitos anos.As características são alta cristalinidade, boa uniformidade e qualidade de superfície superior.

 

 

(20-21)/(20-2-1) face Free-standeung GaN Substrates
Item

GaN-FS-SP-US

GaN-FS-SP-NS

GaN-FS-SP-SI-S

 

 

 

 

 

 

 

GaN Monocristal Nitreto de Gálio Wafer Tipo SI 0

 

Observações:

Um ângulo de arco circular (R < 2 mm) é usado para distinguir a superfície frontal e posterior.

Dimensões 5 x 10 mm2
Grossura 350 ±25 µm
Orientação

(20-21)/(20-2- 1) plano fora do ângulo em direção ao eixo A 0 ±0,5°

(20-21)/(20-2- 1) plano fora do ângulo em direção ao eixo C - 1 ±0,2°

Tipo de Condução tipo N tipo N Semi-isolante
Resistividade (300K) < 0,1 Ω·cm < 0,05 Ω·cm > 106Ω·cm
TTV ≤ 10 µm
ARCO - 10 µm ≤ ARCO ≤ 10 µm
Rugosidade da Superfície Frontal

< 0,2 nm (polido);

ou < 0,3 nm (polido e tratamento de superfície para epitaxia)

Rugosidade da Superfície Traseira

0,5 ~1,5 μm

opção: 1~3 nm (solo fino);< 0,2 nm (polido)

Densidade de Deslocamento De 1 x 105para 3 x 106cm-2
Densidade de Defeito Macro 0 cm-2
Área Útil > 90% (exclusão de borda)
Pacote Embalado em um ambiente de sala limpa classe 100, em contêiner de 6 PCS, sob uma atmosfera de nitrogênio

 

Apêndice: O diagrama do ângulo de corte incorreto

GaN Monocristal Nitreto de Gálio Wafer Tipo SI 1

 

Se δ1= 0 ±0,5°, então (20-21)/(20-2- 1) plano fora do ângulo em direção ao eixo A é 0 ±0,5°.

Se δ2= - 1 ±0,2°, então (20-21)/(20-2- 1) plano fora do ângulo em direção ao eixo C é - 1 ±0,2°.

 

Sobre nós

Nós nos especializamos no processamento de uma variedade de materiais em wafers, substratos e peças personalizadas de vidro óptico. Componentes amplamente utilizados em eletrônica, óptica, optoeletrônica e muitos outros campos.Também trabalhamos em estreita colaboração com muitas universidades nacionais e estrangeiras, instituições de pesquisa e empresas, fornecendo produtos e serviços personalizados para seus projetos de P&D.É nossa visão manter um bom relacionamento de cooperação com todos os nossos clientes por nossa boa reputação.

 

 

Perguntas frequentes

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Contacto
Shanghai GaNova Electronic Information Co., Ltd.

Pessoa de Contato: Xiwen Bai (Ciel)

Telefone: +8613372109561

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