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Detalhes do produto:
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| Nome do produto: | Único Crystal Substrate | Espessura: | 0.6~0.8mm |
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| Orientação: | (201) | FWHM: | <350arcsec> |
| Superfície lustrada: | Único lado lustrado | Ra: | ≤0.3nm |
| Destacar: | Wafer epitaxial Ga2O3 2 polegadas,substrato de cristal único 4 polegadas,wafer epitaxial de cristal único |
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Ra≤0,3nm Espessura do substrato de cristal único Orientação de 0,6 a 0,8 mm (-201)
10x10mm2(-201) Ga independente dopado com Fe2O3substrato de cristal único Grau de produto polimento único Espessura 0,6~0,8 mm FWHM＜350arcsec, Ra≤0,3 nm Dispositivos optoeletrônicos, camadas isolantes de materiais semicondutores e filtros UV
O número de publicações sobre Ga2O3tem acelerado nos últimos anos, como fica evidente na Figura 1, devido ao interesse em dispositivos eletrônicos e fotônicos com capacidades além das tecnologias existentes.Tem havido um equilíbrio saudável de investigações experimentais e teóricas das propriedades do Ga2O3sistema
| Substrato de nitreto de gálio -- Nível do produto | ||
| Dimensões | 10*15mm | 10*10mm |
| Grossura | 0,6~0,8mm | |
| Orientação | (201) | |
| Doping | Fé | Sn |
| superfície polida | Único lado polido | |
| Resistividade/Nd-Na | / | <9E18 |
| FWHM | <350 segundos de arco | |
| Rá | ≤0,3nm | |
| Pacote | Embalado em um ambiente de sala limpa classe 100, sob uma atmosfera de nitrogênio | |
Sobre nós
Nós nos especializamos no processamento de uma variedade de materiais em wafers, substratos e peças personalizadas de vidro óptico. Componentes amplamente utilizados em eletrônica, óptica, optoeletrônica e muitos outros campos.Também trabalhamos em estreita colaboração com muitas universidades nacionais e estrangeiras, instituições de pesquisa e empresas, fornecendo produtos e serviços personalizados para seus projetos de P&D.É nossa visão manter um bom relacionamento de cooperação com todos os nossos clientes por nossa boa reputação.
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