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Detalhes do produto:
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| Nome do produto: | GaN Substrates autônomo | Dimensões: | 10 x 10,5 mm² |
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| Espessura: | 350 ±25µm | TTV: | ≤ 10µm |
| Curva: | - ≤ 10µm da CURVA do ≤ de 10µm | Área útil: | > 90% (exclusão da borda) |
| Destacar: | 350 ± 25 μm Substratos de GaN,10 X 10 |
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10*10,5mm² Face C Substrato de cristal único de GaN não dopado tipo n Resistividade < 0,1 Ω·cm Dispositivo de alimentação/laser
Visão geral
Substratos de GaN
Substratos e wafers de GaN (nitreto de gálio) de alta qualidade (baixa densidade de deslocamento) e os melhores preços do mercado.
Substratos de cristal de GaN livres de qualidade premium com baixa densidade de deslocamento (na ordem de 105 /cm2) e superfície uniforme sem defeitos periódicos.Esses cristais de nitreto de gálio de alta qualidade têm uma área útil de mais de 90%.As opções incluem: tipo N, tipo P, semi-isolante, plano C, plano M, plano A.Tamanhos de até 2 polegadas de diâmetro.
Vendemos diretamente da fábrica e, portanto, podemos oferecer os melhores preços do mercado para substratos de cristal GaN de alta qualidade.
| 10 x 10,5 mm2 Substratos de GaN independentes | ||||
| Item | GaN-FS-CU-S10 | GaN-FS-CN-S10 | GaN-FS-C-SI-S10 |
Observações: |
| Dimensões | 10 x 10,5 mm2 | |||
| Grossura | 350 ±25 µm | |||
| Orientação | Plano C (0001) fora do ângulo em direção ao eixo M 0,35 ±0,15° | |||
| Tipo de Condução | tipo N | tipo N | Semi-isolante | |
| Resistividade (300K) | < 0,1 Ω·cm | < 0,05 Ω·cm | > 106Ω·cm | |
| TTV | ≤ 10 µm | |||
| Arco | - 10 µm ≤ ARCO ≤ 10 µm | |||
| Ga Rugosidade da Superfície da Face | < 0,2 nm (polido) ou < 0,3 nm (polido e tratamento de superfície para epitaxia) |
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| N Rugosidade da Superfície da Face | 0,5 ~1,5 μm opção: 1~3 nm (solo fino);< 0,2 nm (polido) |
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| Densidade de Deslocamento | De 1 x 105 a 3 x 106 cm-2 (calculado por CL)* | |||
| Densidade de Defeito Macro | 0 cm-2 | |||
| Área Útil | > 90% (exclusão de borda) | |||
| Pacote | Embalado em um ambiente de sala limpa classe 100, em contêiner de 6 PCS, sob uma atmosfera de nitrogênio | |||
*Padrões nacionais da China (GB/T32282-2015)
Sobre nós
Nós nos especializamos no processamento de uma variedade de materiais em wafers, substratos e peças personalizadas de vidro óptico. Componentes amplamente utilizados em eletrônica, óptica, optoeletrônica e muitos outros campos.Também trabalhamos em estreita colaboração com muitas universidades nacionais e estrangeiras, instituições de pesquisa e empresas, fornecendo produtos e serviços personalizados para seus projetos de P&D.É nossa visão manter um bom relacionamento de cooperação com todos os nossos clientes por nossa boa reputação.
Perguntas frequentes
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