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Detalhes do produto:
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| Dimensões: | φ50.8mm±0.1mm, DE (1-100), Al Face, encontrando a borda 16.0± 1.0mm | Carcaça: | Safira (laterais simples ou duplos lustrados) |
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| Tipo da condução: | Semi-isolamento | Zona de exclusão de borda: | <2mm |
| Aspereza de superfície: | Ra | Nome do produto: | Bolacha do nitreto de alumínio |
| XRD FWHM de (002): | ≤80arcsec, ≤100arcsec, ≤120arcsec, ≤160arcsec | XRD FWHM de (102): | ≤650arcsec, ≤550arcsec, ≤450arcsec, ≤400arcsec |
| Destacar: | C-plane Sapphire Wafer,substrato aln 50,8 mm |
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Plano C (0001)±1oAIN On Sapphire Wafer Sapphire (Single ou Double Side Polido)
Filme de 2 polegadas de espessura (1,2)Um AIN On Sapphire Wafer SSP XRD FWHM Of(002)≤80arcsec(102) ≤650arcsec UV Desinfecção LED Chip
O substrato AlN é um dos substratos cerâmicos mais populares que possui excelente resistência ao calor, alta resistência mecânica, resistência à abrasão e pequena perda dielétrica.A superfície do substrato AlN é bastante lisa e de baixa porosidade.Nitreto de alumínio tem maior condutividade térmica, em comparação com o substrato de alumina, é cerca de 7 a 8 vezes maior.O substrato AlN é um excelente material de embalagem eletrônica.
Fornecemos substrato de AlN para uma ampla gama de aplicações, incluindo microeletrônica de filme fino e filme grosso, componentes de circuito de RF/microondas de alta potência e alta frequência e capacitor ou resistor, entre em contato conosco para obter mais informações sobre o produto wafer de cerâmica.
| Item | AlN-TCU-C50 | ||
| Dimensões | φ50,8 mm±0,1 mm,OF(1-100),Al Face,Location Edge 16,0± 1,0 mm | ||
| Substrato | Safira (lado simples ou duplo polido) | ||
| Grossura | 1~5μm | ||
| Orientação |
Plano C (0001)±1o |
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| Tipo de Condução | Semi-isolante | ||
| Qualidade cristalina | Grossura | XRD FWHM de (002) | XRD FWHM de (102) |
| [1,2)μm | ≤80 segundos de arco | ≤650 segundos de arco | |
| [2,3)μm | ≤100 segundos de arco | ≤550 segundos de arco | |
| [3,4)μm | ≤120 segundos de arco | ≤450 segundos de arco | |
| [4,5)μm | ≤160 segundos de arco | ≤400 segundos de arco | |
| Zona de exclusão de borda |
<2mm |
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| Rigidez da superfície | Ra<1,5nm(10*10μm) | ||
| Pacote | Embalagem a vácuo em um ambiente de sala limpa classe 10000, em cassetes de 25 peças ou recipientes de wafer único. | ||
Sobre nós
Nós nos especializamos no processamento de uma variedade de materiais em wafers, substratos e peças personalizadas de vidro óptico. Componentes amplamente utilizados em eletrônica, óptica, optoeletrônica e muitos outros campos.Também trabalhamos em estreita colaboração com muitas universidades nacionais e estrangeiras, instituições de pesquisa e empresas, fornecendo produtos e serviços personalizados para seus projetos de P&D.É nossa visão manter um bom relacionamento de cooperação com todos os nossos clientes por nossa boa reputação.
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