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Sistema de recozimento térmico rápido exibido no local da exposição
Exposição
September 26, 2024
Bate-papo
Sistema de recozimento térmico rápido exibido no local da exposição
Sistema de recozimento térmico rápido
Equipamento do semicondutor
Sistema de recozimento RTP-SA-8 de processamento térmico rápido de produção
contacto
sistema de recozimento térmico rápido de 150mm com três gás do processo dos grupos
contacto
SP-Face 11-12 Não dopado Tipo N GaN de stand-alone Substrato de cristal único Resistividade 0,05 Ω·cm Densidade de defeito macro 0cm−2
contacto
JDCD06-001-005 Wafer de silício de 6 polegadas Dispositivos MEMS Circuitos integrados Substratos dedicados para dispositivos discretos
contacto
JDCD06-001-006 8-Inch Silicon Wafer Dispositivos MEMS Circuitos integrados Substratos dedicados para dispositivos discretos
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